光電直讀光譜儀雖然本身測量準(zhǔn)確度很高為產業發展，但測定試樣中元素含量時， 所得結(jié)果與真實含量通常不一致有所增加，存在一定誤差各項要求，并且受諸多因素的影響，有的材料本身含量就很低越來越重要的位置。下面就誤差的種類新技術、來源及如何避免誤差進(jìn)行分析。

據(jù)誤差的性質(zhì)及產(chǎn)生原因順滑地配合， 誤差可分為下面幾種：

系統(tǒng)誤差的來源

• 標(biāo)樣和試樣中的含量和化學(xué)組成不*相同時深入，可能引起基體線和分析線的強(qiáng)度改變，從而引入誤差前沿技術。

• 標(biāo)樣和試樣的物理性能不*相同時基礎，激發(fā)的特征譜線會有差別從而產(chǎn)生光電直讀光譜儀系統(tǒng)誤差。

• 澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過退火多種方式、淬火對外開放、回火、熱軋深入交流研討、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結(jié)構(gòu)不相同時資料，測出的數(shù)據(jù)會有所差別。

• 未知元素譜線的重疊干擾關註度。如熔煉過程中加入脫氧劑橫向協同、除硫磷劑時，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差敢於挑戰。

• 要消除系統(tǒng)誤差不斷創新，必須嚴(yán)格按照標(biāo)準(zhǔn)樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差探索，就需要采用化學(xué)分析方法分析多次校對結(jié)果堅持先行。

偶然誤差的來源

與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差產業。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少滿意度，樣品中元素分布的不均勻性、組織結(jié)構(gòu)的不均勻性能力建設，導(dǎo)致不同部位的分析結(jié)果不同而產(chǎn)生偶然誤差模樣。主要原因如下：

(1)熔煉過程中帶入夾雜物，產(chǎn)生的偏析等造成樣品元素分布不均服務。

(2)試樣的缺陷很重要、氣孔、裂紋、砂眼等異常狀況。

(3)磨樣紋路交叉研究、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素應用創新。

(4)要減少偶然誤差提高，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷的特性，也可以重復(fù)多次分析來降低分析誤差交流。

其他因素誤差

1. 氬氣不純。當(dāng)氬氣中含有氧和水蒸氣時提供堅實支撐，會使激發(fā)斑點變壞還不大。如果氬氣管道與電極架有污染物排不出去，分析結(jié)果會變差信息化技術。

2.室內(nèi)溫度的升高會增加光電倍增管的暗電流發揮作用，降低信噪比。濕度大容易導(dǎo)致高壓元件發(fā)生漏電系統性、放電現(xiàn)象勇探新路，使分析結(jié)果不穩(wěn)定。

如何避免誤差：

• 試樣表面要平整傳遞，當(dāng)試樣放在電極架上時試驗，不能有漏氣現(xiàn)象。如有漏氣開展攻關合作，激發(fā)時聲音不正常製度保障。

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• 樣品與控制標(biāo)樣的磨紋粗細(xì)要一致，不能有交叉紋的有效手段，磨樣用力不要過大統籌推進，而且用力要均勻，用力過大關鍵技術，容易造成試樣表面氧化的必然要求。

• 對高鎳鉻鋼磨樣時，要使用新砂輪片磨樣取得了一定進展，磨紋操作要求更嚴(yán)格完善好。

• 試樣不能有偏析、裂紋積極參與、氣孔等缺陷問題分析，試樣要有一定的代表性。

• 電極的尖部應(yīng)具有一定角度交流研討，使光軸不偏離中心更加完善，放電間隙應(yīng)保持不變形式，否則聚焦在分光儀的譜線強(qiáng)度會改變。多次重復(fù)放電以后支撐作用，電極會長尖日漸深入，改變了放電間隙。激發(fā)產(chǎn)生的金屬蒸氣也會污染電極同時。所以必須激發(fā)一次后就用刷子清理電極豐富內涵。

• 透鏡內(nèi)表面常常受到來自真空泵油蒸氣的污染，外表面受到分析時產(chǎn)生金屬蒸氣的附著產能提升，使透過率明顯降低適應性，對波長小于200nm的碳、硫通過活化、磷譜線的透過率影響更顯著落地生根，所以聚光鏡要進(jìn)行定期清理。

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• 真空度不夠高會降低分析靈敏度健康發展， 特別是波長小于200nm的元素更明顯有效保障， 為此要求真空度達(dá)0.05mmHg。

• ?出射狹縫的位置變化受溫度的影響大長效機製，因此保持分光室內(nèi)恒溫30℃很重要講實踐，還要求室內(nèi)溫度保持一致，使出射狹縫不偏離正常奮戰不懈。