光電直讀光譜儀雖然本身測量準確度很高更優質，但測定試樣中元素含量時建設， 所得結(jié)果與真實含量通常不一致優勢，存在一定誤差效果，并且受諸多因素的影響飛躍，有的材料本身含量就很低新體系。下面就誤差的種類、來源及如何避免誤差進行分析供給。

  根據(jù)誤差的性質(zhì)及產(chǎn)生原因的方法， 誤差可分為下面幾種：

　　1.系統(tǒng)誤差的來源

　　(1)標樣和試樣中的含量和化學組成不相同時，可能引起基體線和分析線的強度改變進行探討，從而引入誤差落到實處。

　　(2)標樣和試樣的物理性能不相同時，激發(fā)的特征譜線會有差別從而產(chǎn)生系統(tǒng)誤差最新。

　　(3)澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過退火倍增效應、淬火、回火擴大、熱軋多樣性、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結(jié)構(gòu)不相同時發揮效力，測出的數(shù)據(jù)會有所差別新格局。

　　(4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑安全鏈、除硫磷劑時顯示，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。

　　(5)要消除系統(tǒng)誤差真正做到，必須嚴格按照標準樣品制備規(guī)定要求科普活動。為了檢查系統(tǒng)誤差，就需要采用化學分析方法分析多次校對結(jié)果強化意識。

　　2.偶然誤差的來源

　　與樣品成分不均勻有關的誤差長期間。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少基本情況，樣品中元素分布的不均勻性、組織結(jié)構(gòu)的不均勻性高端化，導致不同部位的分析結(jié)果不同而產(chǎn)生偶然誤差力量。主要原因如下：

　　(1)熔煉過程中帶入夾雜物，產(chǎn)生的偏析等造成樣品元素分布不均提單產。

　　(2)試樣的缺陷深入實施、氣孔、裂紋發展空間、砂眼等效果。

　　(3)磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱足了準備、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素合作關系。

　　(4)要減少偶然誤差，就要精心取樣系統，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷增強，也可以重復多次分析來降低分析誤差。

　　3.其他因素誤差

　　(1)氬氣不純交流等。當氬氣中含有氧和水蒸氣時更加廣闊，會使激發(fā)斑點變壞。如果氬氣管道與電極架有污染物排不出去提高，分析結(jié)果會變差成效與經驗。

　　(2)室內(nèi)溫度的升高會增加光電倍增管的暗電流，降低信噪比堅實基礎。濕度大容易導致高壓元件發(fā)生漏電稍有不慎、放電現(xiàn)象，使分析結(jié)果不穩(wěn)定等地。

    如何避免誤差：

　　(1)試樣表面要平整最為顯著，當試樣放在電極架上時，不能有漏氣現(xiàn)象規定。如有漏氣環境，激發(fā)時聲音不正常。

　　(2)樣品與控制標樣的磨紋粗細要一致高質量，不能有交叉紋相對簡便，磨樣用力不要過大，而且用力要均勻流程，用力過大合作，容易造成試樣表面氧化。

　　(3)對高鎳鉻鋼磨樣時，要使用新砂輪片磨樣極致用戶體驗，磨紋操作要求更嚴格提供有力支撐。

　　(4)試樣不能有偏析、裂紋建議、氣孔等缺陷加強宣傳，試樣要有一定的代表性。

　　(5)電極的頂尖應具有一定角度用的舒心，使光軸不偏離中心技術發展，放電間隙應保持不變，否則聚焦在分光儀的譜線強度會改變集成。多次重復放電以后重要手段，電極會長尖，改變了放電間隙穩定性。激發(fā)產(chǎn)生的金屬蒸氣也會污染電極像一棵樹。所以必須激發(fā)一次后就用刷子清理電極。

　　(6)透鏡內(nèi)表面常常受到來自真空泵油蒸氣的污染去突破，外表面受到分析時產(chǎn)生金屬蒸氣的附著能運用，使透過率明顯降低，對波長小于200nm的碳作用、硫情況正常、磷譜線的透過率影響更顯著，所以聚光鏡要進行定期清理技術特點。

　　(7)真空度不夠高會降低分析靈敏度提高鍛煉， 特別是波長小于200nm的元素更明顯， 為此要求真空度達0.05mmHg凝聚力量。

　　(8)出射狹縫的位置變化受溫度的影響大有所提升，因此保持分光室內(nèi)恒溫30℃很重要，還要求室內(nèi)溫度保持一致新的力量，使出射狹縫不偏離正常先進水平。