輝光放電光譜儀（GDA）于1968年*出現(xiàn)重要部署，用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學分析尤為突出。這種分析方法不斷地發(fā)展體系，尤其擅長于表面和涂層分析保障性。與傳統(tǒng)的激發(fā)技術相比，輝光放電技術的突出優(yōu)點是能夠表層分析樣品的表層開拓創新。

適用于質量控制和材料研究

在金屬分析領域中持續發展，輝光放電分析是濃度分析和表面分析理想的手段必然趨勢。

表面處理工藝過程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等擴大，都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域實現(xiàn)質量控制多樣性。采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂（鍍）層厚度及化學成分。

對于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題新格局，輝光放電光譜技術可以作為優(yōu)先選用的方法明顯。

采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導體材料和涂層，如玻璃顯示，陶瓷創新為先，釉質和油漆涂層。

GDA750可以配備60個以上的分析通道科普活動，并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求創新延展。涂（鍍）層的深度可測量至200um表面分析和獲得的分辨率達1個原子層。分析軟件具有強大功能并且靈活易用長期間；化學成分可以與其他特性基本情況，如被分析區(qū)域中的密度和質量分布同時測定。

通過比較涂（鍍）層工藝過程（CVD高端化，PVD）前后的表面特性力量，確保生產工藝過程佳化和大程度地避免廢品浪費。

GDA750也可用于塊狀樣品的分析（如金屬合金的化學成分）提單產，為復雜基體材料的分析提供具有良好線性的工作曲線深入實施。

主要特點：

1.涂（鍍）層材料和均相材料化學成分的分析，痕量和微量合金元素的檢測和測量

2.濃度分布測定和表層測量數(shù)據(jù)的定性/定量評價

3.測定被分析表面層內部的相/相比

4.軟件基于Windows 2000環(huán)境發展空間，日常分析功能采用易用的軟件界面效果，使用戶能很快地熟悉儀器的使用

5.具有許多適于用戶的軟件功能選項，如顯示輸出連日來、數(shù)據(jù)傳輸和數(shù)據(jù)格式